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真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較,具有下列優(yōu)點(diǎn): (1)薄膜和基體選材廣泛,薄膜厚度可進(jìn)行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。 (2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好...
所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 一、鍍膜的方法及分類 在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn):可減少蒸發(fā)材料的原子...
真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。 物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法...
鉻鍍層具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性堿、硫化物、硝酸和大多數(shù)有機(jī)酸對(duì)其均不發(fā)生作用但能溶于氫鹵酸(如鹽酸)和熱的硫酸中。 在可見光范圍內(nèi)鉻的反射能力約為65介于銀(88)和鎳(55)之間因鉻不易變色使用時(shí)能長(zhǎng)久地保持其反射...
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